PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物du理气相沉积”，是指在真空条件下，zhi用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)，以及氧化物膜(如TiO等)。

PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μdum～5μm，

其中装饰镀膜膜zhi层的厚度一般为0.1μm~1μm，

因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。